Menawarkan nitrogen trifluorida, zat pembersih kimia, fluor gas laser kimia berenergi tinggi dari produsen Cina

Li- (CFX) N Baterai Elektro-Kimia
Baterai lithium mangan 3V
3V lithium sub baterai
Paket baterai lon lon polimer
Baterai penyimpanan energi
- Baterai penyimpanan energi pergerakan luar ruangan
Baterai alkali 1.5V
Isotop stabil
- Isotop stabil B-11
Bahan perantara farmasi yang mengandung fluorin
- Bahan Biomedis Perfluorooctane
Bahan proses semikonduktor
Fungsi Khusus Bahan karbon fluoride
Bahan Baterai Energi Baru

Cina Bahan proses semikonduktor nitrogen trifluorida Pemasok

Nitrogen trifluorida dalam industri mikroelektronika adalah sejenis gas etsa plasma yang sangat baik, yang retak menjadi ion fluorin aktif selama proses etsa plasma. For the plasma etching of silicon and silicon nitride, using nitrogen trifluoride has higher etching rate and selectivity than using of carbon tetrafluoride or carbon tetrafluoride and oxygen mixed gas, especially in the process of etching integrated circuit material with the thickness of less than 1.5 μm, Nitrogen trifluoride memiliki laju etsa dan selektivitas yang sangat baik, terlebih lagi, tidak ada polusi pada permukaan bahan terukir, itu juga merupakan agen pembersih yang baik.